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当今社会是一个充满信息的社会，信息的快速、准确、高质量的传输离不开光学技术的应用。在许多以光为载体传播信息的过程中，光学元件的广泛应用是不可或缺的。同时，光学系统广泛应用于各种国防武器中。可以说，光学元件的相关技术也相当完善，可以在各种复杂环境中发挥重要作用。但同时，光学元件在复杂环境下工作时也容易受到污染。此外，光学元件在制造和储存过程中容易受到污染，如水雾.油雾对光学元件的作用有很大的影响。如何有效地清洁光学元件，使光学系统正常发挥其关键作用是一个值得研究的问题。以下是光学元件的超声波清洗技术。
光学元件污垢的来源及分类
分析污垢来源
（1）在冷加工过程中，经下盘清洗后，仍有磨料.冷冻液.辅材.有机溶液等残渍；
（2）在工艺过程中，操作人员触摸可能引起的手指印.唾沫印.汗渍印;
（3）元件在储存和使用中，空气中浮尘.二氧化碳.元件表面的水蒸气等。“浸蚀”。上述污垢在光学元件表面往往不是独立存在的，而是相互渗透，受外部环境(湿度)影响.温度等。)的影响，也会因微生物的作用而氧化分解或腐烂，产生更复杂的化合物附着在元件表面，甚至侵蚀元件表面，形成难以去除“色斑”。光学元件表面的污垢主要分为有机污垢.固态污垢.水融性污垢等。
光学元件超声波清洗的特殊要求
（1）清洗剂应具有较好的去污能力，能达到光学元件表面高洁净度的技术标准；
（2）应避免对光学设备和元件表面的侵蚀，或对元件表面造成新的污染；
（3）清洗剂的原始特性(清洗能力).化学稳定性.浊点.温度等。)应长期保持相对稳定性，实效性应保持在元素变化范围内；
（4）光学元件敏感，应用清洗剂清洗时的冲击力必须保持在光学元件的承载范围内。
超音波清洗
1.超声波清洗的原理和工艺
超声波清洗通常采用超声波空化效应和高频压力波的声压梯度.清洁颗粒速率和声流的清洁效果。高频高压振荡信号通过超声波发振箱传输，通过换能器转换为机械振动传输到清洁材料，连续辐射直线传播超声波束，超声波束在材料中产生成千上万的负压气泡，这些气泡在清洁部件表面产生一系列密集爆炸，不断撞击清洁部件表面，包括通过清洁部件的另一侧，以及所有部件的内壁.埋孔.间隙，将附着在表面的污垢脱落，从而达到清洁的目的。超声波清洗工艺主要包括聚焦清洗.多频扫频、跳频清洗和超声振动清洗。
2.影响超声波清洗效果的因素及应注意的问题
（1）影响因素超声波清洗不仅与污垢的性质有关.类型.形状及其附着力水平与清洗介质的理化性质有关.清洗特性.元件的材料和表面也与清洗条件有关，如温度.附加超声振动压力及附加超声振动.机械外力等因素也有很大关系。同时也与清洗工艺有关。
（2）应注意问题
①选择超声波频率。如果洗涤元件更精确，则选择高频（40）kHz以上)可以避免超声波对元件表面的损伤。如果洗涤元件表面脏，颗粒杂质大，应选择较低的频率(25~28kHz)，增加振动强度，使污物脱落。
②工艺选择。实际工艺应根据实际情况确定。对于简单的清洗，只能使用单槽或两槽，可以直接使用超声波或蒸汽浴进行处理。对于复杂的清洗，应使用四个以上的槽.属于多种清洗方法的综合清洗工艺。在某些独特的情况下，应增加抛动装置和慢拉设备，以提高清洗效果。
超声波清洗的优点：（1）速度快，效果好；（2）不受清洗元件表面复杂形状的限制。任何清洗液都可以浸泡在里面.可以产生空化效应的地方可以达到清洁的目的；（3）可以减少污染，降低经济环境成本；（4）可以有效避免污垢再次粘附。
相信随着超声波清洗技术的进一步完善，各种广泛使用的光学元件将得到更好的清洗和维护，使各种光学元件和光学系统能够充分发挥作用。
