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一、超声波清洗机工艺流程
研磨后的清洗：
研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要过程。研磨过程中的主要污染物是研磨粉和沥青，少数企业在加工过程中会有漆片。其中，研磨粉的型号不同，一般为碱金属氧化物，主要是二氧化钛。根据镜片的材料和研磨精度，选择不同型号的研磨粉。研磨过程中使用的沥青起到保护作用，防止抛光镜被划伤或腐蚀。研磨后的清洗设备大致分为两种：
一种主要使用有机溶剂清洗剂，另一种主要使用半水基清洗剂。
有机溶剂清洗的清洗工艺如下:
有机溶剂清洗剂(超声波)-水基清洗剂(超声波)-市水漂洗-纯水漂洗-IPA(异丙醇)脱水-IPA慢拉干燥。
有机溶剂清洗剂的主要用途是清洗沥青和漆片。过去，三氯乙烷或三氯乙烯主要用于溶剂清洗剂。由于三氯乙烷是ODS（臭氧层消耗物质）产品，目前正处于强制淘汰阶段；长期使用三氯乙烯容易导致职业病，由于三氯乙烯不稳定，容易水解酸性，会腐蚀镜片和设备。为此，国内清洁剂制造商开发生产了一系列非ODS溶剂清洁剂，可用于清洁光学玻璃；该系列产品具有不同的物理化学指标，可有效满足不同设备和工艺条件的要求。例如，在少数企业的生产过程中，镜片表面有一层难以处理的漆片，需要特殊溶解的有机溶剂；部分企业清洗设备溶剂清洗槽冷凝管少，自由程短，需要挥发慢的有机溶剂；另一些企业需要快速挥发。
水基清洗剂的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是碱金属氧化物，溶剂的清洗能力很弱，镜片加工过程中产生的研磨粉基本上在水基清洗单元中去除，对水基清洗剂的要求很高。过去，由于国内光学玻璃专用水基清洗剂品种较少，许多外国企业选择进口清洗剂。目前，国内公司已开发出光学玻璃清洗剂，并已成功应用于国内多家大型光学玻璃制造商。清洗效果可以完全取代进口产品，优于腐蚀性（防腐性能）等指标的进口产品。
对于IPA慢拉干燥，需要注意的是，一些类型的镜后容易产生水印，这种现象一方面与IPA的纯度和空气湿度有关，另一方面与清洁设备有很大的关系，特别是手臂干燥效果明显不如单臂干燥好，需要设备制造商和用户注意这一点。
二、半水基清洗采用的清洗工艺如下
半水基清洗剂(超声波)-市水冲洗-市水冲洗-纯水冲洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥。
与溶剂清洗相比，这种清洗工艺最大的区别在于前两个清洗单元：有机溶剂清洗仅对沥青或漆片有良好的清洗效果，但不能清洗研磨粉等无机物质；半水基清洗剂不同，不仅能清洗沥青等有机污染物，而且对研磨粉等无机物质有良好的清洗效果，大大降低了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度慢，气味小。第一个清洗单元中使用半水基清洗剂的设备不需要密封、冷凝、蒸馏和回收装置。但由于半水基清洗剂粘度大，对后续工艺中使用的水基清洗剂有乳化作用，第二个单元必须用城市水冲洗，最好设置为水冲洗。
国内应用这一工艺的企业并不多，其中一个原因是半水基清洗剂多为进口，价格比较贵。
从水基清洗单元开始，半水基清洗工艺与溶剂清洗工艺基本相同。这里不再重复了。
三、有机溶剂清洗与半水基清洗
溶剂清洗是一种更传统的方法，其优点是清洗速度快，效率高，溶剂本身可不断蒸馏回收，但缺点明显，由于光学玻璃生产环境需要恒温恒湿，是封闭车间，溶剂气味会对工作环境产生一定的影响，特别是使用不封闭的半自动清洗设备。
半水基清洗是近年来逐步发展和成熟的一种新工艺，在传统溶剂清洗的基础上得到了改进。有效避免溶剂的一些弱点，无毒，气味轻微，废液可排入污水处理系统，设备配套设备少，使用周期比溶剂长，运行成本低于溶剂。半水基清洗剂最突出的优点之一是对研磨粉等无机污染物具有良好的清洗效果，大大降低了后续单元水基清洗剂的清洗压力，延长了水基清洗剂的使用寿命，减少了水基清洗剂的用量，降低了运行成本。
它的缺点是清洗速度比溶剂慢，必须冲洗。
涂层前清洗：
涂层前清洗的主要污染物是核心油（也称为磨边油，核心也称为核心。核心，是指为了获得规定的半径和核心精度而选择的过程）。指纹。灰尘等。由于涂层过程对镜片清洁度的要求非常严格，因此清洁剂的选择非常重要。在考虑某种清洁剂的清洁能力的同时，也要考虑其腐蚀性等问题。
涂层前的清洗一般与研磨后的清洗方法相同，分为溶剂清洗和半水基清洗。工艺流程和化学品类型如上所述。
涂层后清洗：
一般包括油漆前的清洁。组装前的清洁和组装前的清洁，包括组装前的清洁（组合是指用光敏胶将两个镜头粘在规定的形状上，以满足无法一次加工成型的需要，或创造更特殊的曲率。透光率的过程）是最严格的要求。接头前清洗的污染物主要是灰尘。手印等混合物，清洗不难，但对镜片表面清洁度要求很高，其清洗方法与前两种清洗工艺相同。
